光源核心训练,光源中心

1. 如何看待清华大学团队新型粒子加速器光源“稳态微聚束”的首个原理验证实验? 离实际应用还有多远？

如何看待清华大学团队新型粒子加速器光源“稳态微聚束”的首个原理验证实验? 离实际应用还有多远？

不要高估了高校的科研能力！我在企业、高校都待过几十年，了解国企是什么状况，也太了解高校“专家”、“教授”是什么水平。我的结论是，中国的科研希望在企业，企业科研的希望在华为、三一之类的民营企业。

根据唐传祥教授的说法：“SSMB 光源的潜在应用之一是作为未来 EUV 光刻机的光源。” 这也是此次团队新成果之所以受到广泛关注的重要原因之一。不过唐传祥教授同时也说了，基于SSMB的EUV光源虽然有望解决自主研发光刻机中最核心的“卡脖子”难题，但是也还需要持续的科技攻关和上下游产业链配合，如此才能取得真正的成功。

其实这里已经给了我们距离实际应用中间的差距，第一方面还需要持续的科技攻关，第二方面还需要上下游的产业链配合！那么这其中就有两个问题了！

（图片来源网络，侵删）

很显然目前的环境并不成熟，很多技术都是依附国外授权许可开展的！如果想要进行完成这方面配合，就需要有专门的测试，小到多建立更多的各项链条的测试工作室，大到可能需要生产线的配合！但是如果已经达到了这一步，就要技术攻关每一个点都已经面面俱到了！单点突破是不行的！因为要一点点带线，以线带面才可以！

不过目前的所有阶段都是在于“有望”解决自主化研发光刻机最核心的卡脖子难题！

光刻机能做出90纳米光刻机就可以做13.5一12纳米光刻机，从原理核心机优化长短直径大小纳米光刻机型号，列如一台极紫外光源从过优化不同大小型号极紫外光源纳米，使用第四代枝术全三维设计软件系统数字数质仿真模拟高速计算机计算设计不同型号产品，模块化设计软件无纸制造连接各个生产线，制造分工分段，分装总装，测试试验数据计算和实际一样，比传统图纸设计制造节省80%时间成本***。

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感谢邀请。

EUV光刻机制造难度更大，因此，每年能够生产出的数量也有限；这就导致了几家芯片制造巨头争抢EUV光刻机。清华团队基于SSMB的EUV光源有望实现大的平均功率，并具备向更短波长扩展的潜力，有助于突破大功率EUV光源。如果能够成功得到应用，那么我们卡脖子的问题也逐步会被解决了。

一项科研技术的成功需要不断的尝试不断的开始才拥有最后的成果，我们普通人不能做出直接的贡献，更不要总是反对，我们的国家总是会越来越好的！

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昨天从媒体上看到清华大学首个原理验证了"新型粒子加速器"的原理验证实验的消息，得知它可作为“未来 EUV 光刻机的光源。”大家都知道EUV光刻机是制造芯片的重要关键设备， 其中的光源也是光刻机的重要部件，目前***用的是美国造的，是属于美国技术。芯片被卡脖子是因为国内目前不能制造5、7纳米的高端芯片，使得华为的旗舰手机生产受阻，手机销售排名从去年上半年的全球第一，到年末的第五名之外。可见其芯片制造的重要性，在芯片制造上除了其产业链不键全外，就是没有高端光刻机，前几年国内芯片制造企业中芯国际和华虹等都想买，但瓦森纳协议的影响和美国阻绕，直到目前也没有买成。

去年芯片卡脖子***后，除了华为启动"南泥湾计划"外，全国从上至下也在加速芯片制造的攻关，国家也大力扶持，所以这消息一出来，立刻引起巨大反响。离高端光刻机的成功又离了一步，那清华大学的这个成果距离实际应用还有多远呢？

在媒体消息上，唐传祥教授说"基于SSMB的EUV光源虽然有望解决自主研发光刻机中最核心的“卡脖子”难题，但是也还需要持续的科技攻关和上下游产业链配合，如此才能取得真正的成功。"

从这段话中我们不难理解到，这个实验原理验证结果，距离实际应用还需要解决两方面问题，第一方面是科技攻关还有未解决的问题，需要继续努力攻克难关，第二方面在产业链上，上下游不够完善，还需要大家齐心协力互相配合继续完善。

待这两方面经过全国科技工作者的不懈努力，全面解决所有问题之际，就是"新型粒子加速器光源"的实际应用之时。"中国速度"也说明离这一天也不会大遥远。

中国上海的中微电子已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，并形成产品系列开始海内外销售；高端的投影式光刻的分辨率为七纳米至几微米之间，高端光刻机主要是荷兰ASML的EUV光刻机。

在现实情况下，高端芯片需要我们在更多的领域发力，全面攻克高端光刻机，这次的清华大学的实验验证结果也属于高端光刻机最核心的技术之一。